mosfet — с английского на русский
Толкование Перевод
1 MOSFET
MOSFET
(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)
МОП-транзистор (MOSFET)
Полевой транзистор со структурой металл- оксид-полупроводник. Современная цифровая техника построена, в основном, на полевых МОП- транзисторах (МОПТ) как более экономичных, по сравнению с биполярными транзисторами, элементах. Иногда их называют МДП (металл-диэлектрик-полупроводник)- транзисторы. Транзисторы изготавливаются в рамках интегральной технологии на одном кремниевом кристалле (чипе) и составляют элементарный «кирпичик» для построения микросхем памяти, процессора, логики и т. п.
Англо-русский словарь по нанотехнологиям > MOSFET
2 MOSFET
= metal-oxide-semiconductor field-effect transistor
(полевой) МОП-транзистор, полевой транзистор с-изолированным затвором
— double-diffused MOSFET
— dual-gate MOSFET
— long-channel MOSFET
— short-channel MOSFET
— single-gate MOSFET
— V-groove power MOSFETEnglish-Russian electronics dictionary > MOSFET
3 MOSFET
сокр. от metal-oxide-semiconductor field-effect transistor
(полевой) МОП-транзистор
— double-diffused MOSFET
— dual-gate MOSFET
— long-channel MOSFET
— short-channel MOSFET — single-gate MOSFET
— V-groove power MOSFETThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > MOSFET
4 MOSFET
сокр. от metal-oxide-semiconductor (field-effect) transistor
полевой транзистор со структурой металл — оксид — полупроводник, (полевой) МОП-транзистор
—
accumulation MOSFET
—
anodized MOSFET
—
bipolar function MOSFET
—
charge coupled MOSFETs
—
junction gate MOSFET
—
lateral MOSFETАнгло-русский словарь технических терминов > MOSFET
5 MOSFET
- МОП-транзистор
МОП-транзистор
Полевой транзистор с МОП-структурой затвора; токи протекают в канале между истоком и стоком; канал создается при прикладывании соответствующего потенциала к выводу затвора и инвертировании поверхности полупроводника под затвором; МОП-структура реализуется почти исключительно для кремния оксида SiO2 для затвора; эффективное переключающее устройство, доминирующее в логических устройствах и устройствах памяти; р-МОП-транзистор (p-канал, кремниевая подложка n-типа) и n-МОП-транзистор (n-канал, кремниевая подложка p-типа) при объединении образуют базовую КМОП-ячейку.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
- полупроводниковые приборы
EN
- MOSFET
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > MOSFET
6 MOSFET
[metal-oxide-semiconductor field-effect transistor] канальный полевой униполярный МОП-транзистор
Большой англо-русский и русско-английский словарь > MOSFET
7 MOSFET
1) Техника: MOS field-effect transistor
2) Телекоммуникации: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
3) Сокращение: Metal Oxide Silicon Field Effect Transistor, Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, metal-oxide-semiconductor
4) Электроника: полевой МОП-транзистор
5) Вычислительная техника: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor (IC, FET)
6) Транспорт: Michigan Offroad Sensor Fusing Experimental Testbed
7) Расширение файла: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
Универсальный англо-русский словарь > MOSFET
8 mosfet
1)
2) Телекоммуникации: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
3) Сокращение: Metal Oxide Silicon Field Effect Transistor, Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, metal-oxide-semiconductor
4) Электроника: полевой МОП-транзистор
5) Вычислительная техника: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor (IC, FET)
6) Транспорт: Michigan Offroad Sensor Fusing Experimental Testbed
7) Расширение файла: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
Универсальный англо-русский словарь > mosfet
9 MOSFET
metal oxide semiconductor field effect transistor; MOS field-effect transistor — канальный полевой униполярный МОП-транзистор; металооксидный полевой полупроводниковый транзистор; полевой МОП-транзистор; полевой транзистор с МОП структурой затвора; полевой транзистор со структурой металл-оксид-полупроводник
Англо-русский словарь технических аббревиатур > MOSFET
10 MOSFET
сокр. от metal-oxide-semiconductor field-effect transistor
канальный полевой униполярный МОП-транзистор
English-Russian dictionary of computer science and programming > MOSFET
11 MOSFET
полевой транзистор с МОП структурой затвора
Новый англо-русский словарь > MOSFET
12 MOSFET
сокр. от metal-oxide-semiconductor field effect transistor
полевой транзистор типа металл-оксид-полупроводник
English-Russian analytical chemistry abbreviations > MOSFET
13 MOSFET
МОП-транзистор
English-Russian household appliances > MOSFET
14 MOSFET
сокр. от metal-oxide semiconductor transistor; metal-oxide semiconductor field-effect transistor
полевой транзистор с МОП-структурой
English-Russian dictionary of telecommunications and their abbreviations > MOSFET
15 MOSFET
МОП-транзистор
English-Russian dictionary on household appliances > MOSFET
16 MOSFET
Мат. плата; Оборудование Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor полевой транзистор МОП Силовые транзисторы, которые используются в многофазной схеме (количество фаз определяет количество транзисторов, между которыми распределяется нагрузка).
English-Russian dictionary of computer abbreviations and terms > MOSFET
17 mosfet
МОП-транзистор
English-Russian dictionary of microelectronics > mosfet
18 mosfet
МОП-транзистор
English-Russian big polytechnic dictionary > mosfet
19 mosfet
полевой моп-транзистор
English-Russian dictionary of electronics > mosfet
20 MOSFET
МОП-транзистор
The English-Russian dictionary general scientific > MOSFET
Страницы
- Следующая →
- 1
- 2
- 3
- 4
- 5
Статья о биполярных транзисторах с изолированным затвором
Информация, изложенная в статье, в первую очередь может оказаться полезной при выборе IGBT для нового проекта, так как те некоторые сведения, которые требуется знать о разных типах IGBT, не упоминаются в технических описаниях. Кроме того, во многих справочных руководствах отсутствует информация о технологиях изготовления IGBT. Понимание различий между этими техпроцессами позволяет найти современную замену устройствам IGBT, которые используются в уже существующих приложениях.
Сравнение IGBT с MOSFET
По сравнению с MOSFET процессы обработки поверхности IGBT имеют много схожего, но основные различия в динамических характеристиках этих устройств обусловлены разными структурами нижней поверхности полупроводниковых пластин. Хорошо известные n-канальные MOSFET, работающие в режиме обогащения, делятся на планарные и выполненные по технологии Trench. Поперечное сечение этих устройств и направление тока представлены на рис. 1. Электрическое поле, созданное приложенным между затвором и истоком положительным напряжением значительной величины, вынуждает большое количество носителей дрейфовать от имплантированной n-зоны к имплантированной p-зоне.
В MOSFET планарного типа бóльшая часть пути тока приходится на боковой дрейф, а меньшая — на отрезок между поворотом на 90° и стоком (рис. 1). Чем длиннее общий путь, включая небольшой отрезок канала, где проводимость модулируется металлическим затвором, тем больше сопротивление RDS(ON) на единицу площади (при том же напряжении VDSS и шаге между ячейками).
Рис. 1. Направление токов, протекающих через MOSFET двух типов
В Trench MOSFET канал дрейфующих к стоку носителей полностью вертикален, а проводимость модулируется в намного большей степени за счет большей площади металлического затвора, расположенного по сторонам канала. В результате сопротивление RDS(ON)у транзисторов этого типа меньше по сравнению с планарными устройствами. В обоих случаях электроны дрейфуют от истока по n— и p-каналам в подложку n-типа, обеспечивая так называемое открытое состояние транзистора.
Как известно, в n-канальном MOSFET, работающем в режиме обогащения, имеется внутренняя n-p-n-структура. Работа этого устройства редко вызывает проблемы благодаря тому, что его переход «база–эмиттер» практически закорочен металлизированным покрытием электрода истока. Если напряжение между стоком и истоком устройства достаточно быстро увеличивается при протекании заряда в биполярный транзистор от обратной емкости CRSS, он может включиться, а затвор — потерять способность к управлению. И хотя защелкивания не происходит, поскольку прекращается управление только биполярным транзистором, последствия могут быть катастрофичными. Большинство приложений нечувствительно к этому режиму работы из-за паразитных элементов, которые ограничивают скорость нарастания фронта VDS.
IGBT работает схожим образом, но за счет слоя p+ на нижней поверхности полупроводниковой пластины. Кристаллы IGBT, выполненные по технологии PT (punch-through), имеют достаточно большую толщину — порядка 200 мкм у 600-В устройств. Главным образом это обусловлено очень толстым эпитаксиальным слоем p+ (около 100 мкм), нанесенным на заднюю поверхность подложки n-типа. Эти устройства также имеют буферный слой n+, который нанесен непосредственно поверх слоя p+. Именно благодаря этому слою n+ возник термин punch-through («смыкание р-n-перехода»). С этой точки зрения, это устройство очень напоминает по строению планарный MOSFET.
Для объяснения работы механизма punch-through следует принять два допущения. Вывод коллектора IGBT фактически представляет собой эмиттер внутреннего биполярного р-n-р-транзистора. Следует учитывать динамические характеристики этого устройства.
В случае сильно легированных n— и р-каналов перехода «база–эмиттер» обеспечивается более высокий коэффициент усиления по току в схеме с общим эмиттером и меньшее напряжение VCE(SAT), чем при использовании слаболегированной зоны n+. Чем указанный коэффициент усиления выше, тем ниже VCEO относительно VCBO биполярного транзистора. (Опытные инженеры могут по этому случаю вспомнить, как в свое время выбирали биполярные транзисторы с небольшим коэффициентом усиления по току для импульсных источников питания, а затем пропорциональный управляющий сигнал для базы, чтобы вывести транзисторы из насыщения).
IGBT, выполненные по технологии PT, преодолевают эти асимптотические пределы. Как только IGBT начинает выключаться, напряжение VCBO p-n-p-транзистора блокирует напряжение. Следует заметить, что переход «коллектор–база» p-n-p-транзистора находится рядом с верхней поверхностью этого устройства. Между p-n-p-коллектором верхней части IGBT (эмиттером устройства) и переходом «база–эмиттер» с рекомбинирующими носителями начинает появляться высокое напряжение. Оно приводит к возникновению электрического поля, которое убывает по мере удаления от верхней части устройства к внутреннему граничному слою n–/n+. Если поле достаточно велико у этого граничного слоя, переход «коллектор–база» распространяется в буферный слой n+. В результате переход «база–эмиттер» внутреннего p-n-p-транзистора очень быстро закрывается, «хвост» тока становится короче по сравнению с «хвостом» в устройствах типа NPT (non-punch-through), у которых этот буферный слой отсутствует.
IGBT, выполненные по технологии PT, например транзисторы 4-го поколения от компании International Rectifier (IR), имеют отрицательный температурный коэффициент. Это значит, что напряжение VCE уменьшается с увеличением температуры, что затрудняет возможность параллельного соединения устройств и вынуждает тщательно подбирать соответствующее значение VCE. Расчетное время короткого замыкания, как правило, невелико и не устанавливается. Это обусловлено относительно высоким коэффициентом усиления по току биполярного транзистора и неспособностью точно управлять крутизной n-канального MOSFET, чтобы ограничить максимальный ток и, как следствие, максимальную рассеиваемую мощность.
NPT-устройства
В отличие от PT IGBT, NPT-транзисторы, например 4-го поколения от компании IR, имеют легированную зону p+ на нижней стороне подложки n-типа. Поскольку эта зона сравнительно небольшой толщины, обработка подложки обходится дешевле. Буферный слой n+ отсутствует. Несмотря на внешнее сходство, разница между этими двумя структурами устройств значительная. Состояния включения и выключения реализуются схожим образом, но в NPT-транзисторах отсутствует эффект смыкания, что позволяет сократить время накопления заряда и побуждает рекомбинировать носители в переходе «база–эмиттер» собственной p-n-p-структуры. В результате «хвост» коллекторного тока при выключении NPT-транзисторов немного длиннее, чем у PT-устройств, а остальные характеристики идентичны.
Из-за меньшего коэффициента усиления по току в собственной p-n-p-структуре напряжение VCE(SAT) PT-транзисторов несколько выше, чем у NPT, благодаря чему легче управлять максимальным током p-n-p-транзистора с меньшим коэффициентом усиления с помощью собственного n-канального MOSFET. Это значит, что длительность короткого замыкания NPT-устройства хорошо определяется и контролируется. Значение этого параметра у NPT IGBT находится в диапазоне до 10 мкс.
Наконец, характеристики n-канального MOSFET превалируют над NPT IGBT. Это значит, что напряжение VCE(SAT)увеличивается с ростом температуры, позволяя соединять эти устройства параллельно друг другу.
Field-Stop IGBT
Рассмотрим совершенно новое устройство из семейства IGBT — очень эффективные IGBT семейства Field Stop. Сама по себе эта технология позволяет уменьшить напряжение насыщения за счет намного меньшей толщины подложки. В этом случае относительно тонкий слой n– обедняется при закрытии перехода «коллектор–база» и смыкается с тонким хорошо управляемым слоем n+, в котором рост электрического поля прекращается. Транзисторы, выполненные по технологии Field-Stop, имеют очень малую толщину по сравнению с устройствами NPT и PT. Благодаря использованию слоя n+, прекращающего дальнейшее распространение электрического поля, Field-Stop IGBT можно отнести к семейству PT-устройств. Однако транзисторы Field-Stop намного лучше управляются, чем их предшественники PT.
IGBT, появившиеся на базе технологии MOSFET, относятся к Trench-устройствам, как, например, транзисторы IR 7-го поколения. Как уже упоминалось, технология Trench позволяет с помощью затворного напряжения той же величины модулировать намного большую область дрейфа, увеличивая коэффициент усиления n-канального MOSFET, уменьшая расстояние до стока и величину сопротивления в открытом состоянии. Траектория прохождения тока в этом случае представляет собой вертикальную прямую линию, идущую от коллектора к эмиттеру. Меньшее значение RDS(ON) MOSFET наряду с более высоким коэффициентом усиления биполярного транзистора за счет тонкого буферного слоя n+обеспечивает меньшее напряжение VCE(SAT). На рис. 2 сравниваются разные IGBT-структуры.
Рис. 2. Сравнение разных IGBT-технологий: PT, NPT и FS/Trench (порядковые номера поколений транзисторов обозначают соответствующие техпроцессы IR, с помощью которых эти устройства были изготовлены)
Комбинация технологий Trench и Field-Stop при создании, например, 1200-В семейств транзисторов IR 6-го и 7-го поколений обеспечивает меньшее значение RDS(ON) и толщину устройства, больший коэффициент усиления канала и наличие зоны n+Field-Stop, благодаря чему появляется возможность использовать устройство в параллельных конфигурациях при минимальном времени накопления заряда и большей устойчивости к намного более высоким температурам. Из-за тонкого перехода «база–коллектор» в собственном p-n-p-транзисторе при значительном токе может возникнуть нехватка носителей и состояние ненасыщения. Поскольку максимальный ток короткого замыкания ограничен, упрощается механизм противодействия возникновению этих условий.
У всех этих устройств общий механизм отказа. У MOSFET, который мы рассмотрели выше, имеется внутренний n-p-n-транзистор, расположенный параллельно выводам стока и истока. Переход «база–эмиттер» этого n-p-n-транзистора закорочен металлизированным покрытием истока вдоль n— и p-каналов. В IGBT имеется дополнительный p-слой на обратной стороне устройства, благодаря которому тиристор формируется из этого паразитного n-p-n-транзистора (n-p-n-p). В отличие от MOSFET, который может пропустить большой импульс тока коммутации через емкость CRSS, IGBT в этих условиях полностью защелкивается. Коэффициенты усиления этих переходов тщательно контролируются, но при нарушении установленных режимов IGBT защелкивается.
Чего нет в технических описаниях
При поиске подходящего устройства для конкретного приложения используются руководства по выбору, с помощью которых выясняются требуемые характеристики — напряжение, ток, частота коммутации и другие параметры. В одних случаях эти руководства хорошо справляются со своей задачей, в других имеются досадные ограничения.
Как правило, информация о рассмотренных выше технологиях не предоставляется в технических описаниях, несмотря на то, что эти материалы широко используются на семинарах, производстве и при обсуждении характеристик устройств. Может быть, настало время дополнить технические описания необходимой информацией?
Очевидно, что при выборе списка материалов, например для силового преобразователя или его замены современным устройством, знание о технологии его построения окажет разработчику неоценимую услугу.
Предположим, необходимо создать емкостный регулятор яркости, управляемый несфазированным полным мостом ZVT (Zero Volt Switching — коммутация при нулевом напряжении). При этом следует понять, подойдет ли с этой целью резонансная топология. Ответ на этот вопрос положителен в тех случаях, когда ток нагрузки достаточно велик, чтобы в первичной индуктивности рассеяния накопилась энергия примерно той же величины, что и в емкости COSSпротивоположного IGBT в полумостовых схемах. В иных случаях выбирается жесткая коммутация. Таким образом, используются и мягкая, и жесткая коммутация. Однако ни одно руководство по выбору не дает ответа на этот важный вопрос.
При разработке электропривода возникают и другие вопросы, на которые не найти ответа в руководстве по выбору. Нужна ли в схеме защита от короткого замыкания? Как правило, нет, поскольку у привода отсутствуют незащищенные выводы и потому вероятность их замыкания нулевая. В рассматриваемом примере разработчику следует обеспечить малые значения COSS (выходная емкость), QG (заряд затвора), CRSS (емкость обратного смещения), EOFF (энергия выключения) и QRR (заряд обратного восстановления диода). Этот набор параметров реализуется с помощью любой технологии — PT, NPT или Field-Stop/Trench — в зависимости от частоты коммутации.
Для выбора оптимального устройства следует обсуждать эти приложения с инженерами по применению и производителями. Следует также выбрать диод, соответствующий конкретной IGBT-технологии. Как правило, предпочтителен выбор диодов с малым значением QRR. Высокие значения IRR, QRR и tRR могут стать причинами большого шума.
Итак, этот краткий обзор IGBT-технологий можно рассматривать как пособие для проектирования не только стандартных, но и новых приложений, в отношении которых наблюдается нехватка важной информации.
Литература
- Mohan N., Undeland T., Robbins W. Power Electronics: Converters, Applications and Design. John Wiley and Sons. Third Edition. 2003.
- IGBT Characteristics. IR application note AN-983.
- Wood P., Battello M., Keskar N., Guerra A. IPM Application Overview, Integrated Power Module for Appliance Motor Drives. International Rectifier application note AN1044 rev. A.
Обзоры тем, обсуждаемых в […] презентации, включая нг a MOSFET транзистор , t он […] пороговое напряжение, ловушка заряда […] и плавающий затвор, и то, как они активируют энергонезависимую память, и как флэш-память выполняет операции чтения, записи и стирания. sandisk.com sandisk.com | En este captulo, se recuerdan los temas discutidos en la […] cl uido el транзистор MOS FET, l важное [. ..] де-ла-тензин-де-умбрал, ла-карга […] atrapada y la puerta flotante y cmo habilitan la memoria no voltil, y la forma en que la tecnologa flash realiza la operaciones de lectura, escritura y borrado. sandisk.es sandisk.es | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Нелетучий MEM или Y , Транзистор , МОП-транзистор , C HA Nnel, Threshold […]] напряжение, плавающий затвор, зарядовая ловушка, туннелирование, подложка, напряжение затвора, поток электронов sandisk.com sandisk.com | Memor ia № vol til, Transistor, Transistor MOSFET , Ca na l, Tensin […] де Умбрал, Пуэрта флотанте, Карга атрапада, Эфекто тнель, [. ..] sustrato, Tensin en la puerta, Flujo de electronices sandisk.es sandisk.es | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
В этой статье вы можете найти научные объяснения преимуществ e o f Транзистор MOSFET a s a Устройство вывода звука. vn-amps.com.ar vn-amps.com.ar | En l, se expusieron los resultsados d e nuestra i nvestigacin sobre nuevas tecnologas en dispositivos de salida de amplificadores de audio. vn-amps.com.ar vn-amps.com.ar | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Дидактический модуль для изучения коммутации […] behaviour of t h e MOSFET p o w e r transistor , i nc ludi нг a МОП-транзистор м или дю ле, а также [. ..] в качестве схемы управления. alecop.com alecop.com | Estudio del comp или tamie nto de l транзистор M OSF ET de po […]de conmutacin, который включает в себя цепь, ассоциативную для контроля. alecop.com alecop.com | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Передовая электроника wi t h МОП-транзисторы a l ws […] параметров скорости, ускорения и торможения, включение […] для рекуперации энергии при включении или включении передачи. om-pimespo.es om-pimespo.es | Электрика […] DE AV AN ZADA CON Transistor DE T IPO MO SFET, QUE POMPI TE Обычный [. ..] los parmetros de velocidad, aceleracin y frenado, […] y recuperar la energa en la liberacin o en la inversin de Marcha. om-pimespo.es om-pimespo.es | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
The CD4007 is a MOSFET d u al complemen ta r y transistor p a ir плюс инвертор. sdiy.org sdiy.org | Эль CD4007 E S UN P AR COMPELMEMANTA RI O DUA L D EL Transistor DE L M OSFET M S EL […] инвертор. sdiy.org sdiy.org | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
MOSFET ( M et al Oxide Semiconductor Field Ef fe 0
|