Изготовление печатных плат с помощью жидкого фоторезиста
В данной статье хочу поделиться своим опытом изготовления печатных плат с помощью жидкого (или баночного) фоторезиста со всеми особенностями процесса. Так как на просторах интернета очень много статей и видео, посвящённых исключительно плёночному фоторезисту. А в тех немногих материалах по жидкому — изготавливают платы с такими крупными дорожками, которые можно нарисовать чуть ли не пальцем. Попутно проведу сравнение с другими методами изготовления печатных плат. В статье будет большое количество картинок (что не отменяет чтение текста), которые будут иллюстрировать основные этапы процесса изготовления (заранее извиняюсь за качество фото, снимал их на не очень качественный телефон). Возможно, моя статья подтолкнёт сторонников ЛУТа наконец-таки перейти на более современный метод, или поможет переманить любителей плёночного фоторезиста на «свою сторону». Но, обо всём по порядку.
Современная промышленность (в основном — китайская) предлагает радиолюбителю несколько вариантов фоторезиста: плёночный, баночный, аэрозольный и готовый текстолит с нанесённым слоем фотополимерного материала (по крайней мере, те, о которых я знаю).
Начнём с пленочного. Основные его достоинства — это равномерный слой нанесённого материала, отсутствие запахов, а также все общие достоинства фоторезиста, такие как точность рисунка и маленькая ширина нанесённых дорожек. Зато недостатков масса: очень слабая адгезия (он отлипает при проявке, он отлипает при травлении, он отлипает даже при наклеивании!). Возможно, мне попадался не очень качественный материал, хотя я пробовал разные виды от разных продавцов (естественно из Китая). Плохо смывается: вроде на плате плёнки не осталось при проявке, а начинаешь травить плату — большая часть не протравливается! Также плёночный фоторезист требует идеальной подготовки текстолита, иначе вы получите кучу пузырьков, которые потом никакими иголками и разглаживаниями не уберёшь.
Перейдём к баночному фоторезисту. Основные его достоинства — наличие минимального набора оборудования, стабильная повторяемость результатов, отличная адгезия к фольге текстолита (просто, зубами не оторвёшь!), относительно несложное нанесение материала при определённой сноровке, а также все общие достоинства, характерные для всех фоторезистов.
Но и он не идеален и имеет свои недостатки: он жутко воняет (просто ужасно, что-то среднее между ПФ-115 и нитролаком).
Второй недостаток — неравномерный слой материала при простых способах нанесения (который, кстати, не особо влияет на качество защитного рисунка, по крайней мере в разумных пределах). В идеале баночный фоторезист надо наносить с помощью трафаретной сетки аналогично паяльной маске или аэрографом, но это опять же сильно удорожает метод.
Хватит теории, давайте переходить к практике. Сначала перечислю, что нам понадобится:
- фольгированный стеклотекстолит или гетинакс, естественно.
- сам баночный фоторезист (на Aliexpress)
- кальцинированная сода.
- 646 растворитель.
- принтер (лазерный или струйный).
- плёнка для печати (соответственно, для лазерного или струйного принтера). Скажу сразу — хороший фотошаблон это ключевое требование для получения хорошего рисунка защитного слоя. Чтобы сделать качественную плату с тонкими дорожками, не подойдёт калька, тонкая бумага, пропитанная маслом, скотч, наклеенный на распечатанный лист и смытый водой и другие подручные материалы.
- ультрафиолетовая лампа (сейчас я использую LED лампу для ногтей, но раньше у меня сначала была самодельная матрица из УФ светодиодов, потом из ленты УФ светодиодов, также неплохо работают и люминисцентные УФ лампы в том числе для ногтей).
- подходящий по размеру кусочек стекла (в идеале — органического, но и обычное не сильно ослабляет УФ-излучение, как пишут некоторые в интернетах).
- желательно иметь паяльную станцию с термофеном, но можно и обычный фен.
- прочие расходные материалы, такие как мелкая наждачная бумага, ёмкости, шприц, ватные палочки, порошковое моющее средство, какой-нибудь материал застелить рабочую поверхность, например — газета (как у меня). Это уже больше для удобства и на ваш вкус.
Как при любом методе изготовления печатной платы, первое, что нам надо сделать — это нарисовать её. Я предпочитаю Sprint Layout, так как она бесплатная, простая и интуитивно понятная, не перегружена лишними функциями, позволяет добавлять свои макросы и многое другое.
Хотя, это дело вкуса, главное, чтобы софт позволял распечатывать ваши шаблоны в негативе. На данном этапе из особенностей — я лишь посоветую не рисовать дорожки тоньше 0,3 мм (особенно при печати шаблонов на лазерном принтере, на струйном, возможно получится сделать более тонкие дорожки, но я не пробовал, потому что струйника у меня нет). Почему, объясню позже.
Для примера я буду приводить фотографии процесса изготовления достаточно сложной платы с деталями в SSOP24, TQFP100 и других SMD корпусах с шагом от 0,5 мм, если я не ошибаюсь. Это плата для моего проекта — USB программатора параллельных Flash и EEPROM микросхем памяти.
После того, как нарисовали плату, всё тщательно проверяем (как в поговорке — «семь раз отмерь…»), чтобы потом не резать дорожки на уже готовой плате. Далее нам нужно распечатать фотошаблон. Фотошаблон печатается в негативе (проводящий слой должен быть прозрачным), зеркально (напечатанная сторона должна ложиться на фоторезист, чтобы максимально уменьшить фокусное расстояние).
Печатать в двух экземплярах на лазерном принтере нужно, потому что шаблон на просвет получается полупрозрачный. И с таким шаблоном будут засвечиваться ненужные участки фоторезиста. Поэтому я накладываю два шаблона один на другой, склеиваю клеем карандашом и совмещаю рисунок на просвет. Можно конечно использовать специальные спреи для «чернения рисунка» или подержать плёнку в парах ацетона. Но это опять же удорожает технологию и, к тому же, работает не со всеми видами тонеров.
Выше я писал, что при печати на лазернике дорожки лучше не делать тоньше 0,3 мм. Всё из-за того, что плёнка для лазерного принтера (особенно дешёвая) даёт термоусадку и рисунок немного деформируется.
Пример готовых двухслойных шаблонов:
С шаблонами разобрались. Дальше выбираем подходящий по размерам кусочек текстолита. Текстолит можно вырезать без запасов по краям (прямо точь в точь по размеру фотошаблона). А можно обрезать и после, как это сделал я.
Так как я буду делать двухстороннюю плату, то сначала я буду её сверлить. Для этого у меня есть ЧПУ фрезерный станочек. При его отсутствии можно наложить на текстолит напечатанный на бумаге рисунок платы и разметить отверстия или сверлить прямо через бумагу по рисунку.
Для односторонней платы этот этап можно пропустить и сверлить после травления. Двухстороннюю плату тоже можно сразу не сверлить целиком, а лишь просверлить 2-4 отверстия по углам (которые нужно нарисовать при разводке платы) для совмещения фотошаблона с обеих сторон.
Вот как получается на станочке с использованием карбидовых свёрел разного диаметра:
Затем готовим плату для нанесения фоторезиста. Для просверленной платы я использую два типа наждачки: 240-ю для грубой обработки краёв и отверстий и 400-ю или мельче для финишной обработки. Текстолит без отверстий можно сразу шлифовать самой мелкой наждачкой. Всякие извращения, типа потереть ластиком — не подойдут. Поверхность должна быть чуть-чуть шершавая (для лучшей адгезии фоторезиста, как для ЛУТа). После наждачки моем плату с моющим средством (типа «Пемолюкса» и ему подобных). Высушиваем. Должно выглядеть как-то так:
Плата для нанесения фоторезиста готова. Теперь нужно приготовить сам фоторезист. Из банки он достаточно густой, скорее всего для нанесения с помощью трафаретной сетки. Поэтому его надо развести. Покупать для этого чудодейственное «банановое масло» у китайцев, которое они предлагают за баснословные деньги вместе с фоторезистом, смысла нет никакого. Отлично подходит обычный 646-й.
Для удобного дозирования я использую шприц.
Неразбавленный фоторезист выглядит так:
Теперь ещё один важный момент. Как разводить фоторезист? Тут надо пробовать самим. Определённых пропорций нет. Это искусство, которое приходит с опытом. Если развести его слишком густо, то слой получится очень толстый и слишком неравномерный. Если слишком жидко, то при сушке будут образовываться «кратеры» непокрытые краской. Скажу только, что разбавленный фоторезист должен быть интенсивной окраски, по яркости раза в два ярче неразбавленного, по консистенции — чуть гуще растворителя.
Далее — наносим краску на плату. Я пробовал наносить кисточкой, как на фотографиях продавца, но получается полная ерунда, сплошные разводы. Я наношу ватной палочкой методом «нашлёпывания» — то есть штампую точками. Получается как-то так.
Не пугайтесь, если слой не совсем равномерный. Главное, чтобы не было «проплешин» краски. Но старайтесь размазывать и разшлёпывать толстые участки краски, иначе вам надоест её сушить.
Должно получиться примерно так (как видно, в некоторых местах я подкрашивал ещё одним слоем):
После нанесения краски — сушим. Я это делаю термофеном от паяльной станции. Температуру выставляю 165 градусов. Для ускорения процесса я нагреваю, а затем остужаю плату. И так, обычно, раза три. Когда краска высыхает, она из глянцевой становится матовой. Тут главное не перегреть. Также можно просто ждать, пока высохнет сам или на батарее, но это очень-очень долго. При сушке феном правильно нанесённый слой можно высушить за 1-3 минуты в зависимости от площади платы. И да, хотя фоторезист не особо боится дневного освещения, старайтесь не проводить все манипуляции с ним под прямыми солнечными лучами.
Всё, фоторезист нанесён. Накладываем фотошаблон, совмещаем рисунок с отверстиями и накрываем стеклом, так, чтобы фотошаблон максимально плотно прилегал к плате. При необходимости — чем-нибудь прижимаем стекло.
Далее засвечиваем плату. Время засветки нужно подбирать индивидуально.
Оно зависит от мощности лампы, толщины слоя и качества фоторезиста. LED лампы засвечивают намного быстрее, чем люминисцентные. Я засвечиваю LED лампой для ногтей 90-100 секунд. В общем — экспериментируйте. Если недодержать экспозицию, можно при проявке смыть дорожки, если передержать — могут затвердеть переходы между близко расположенными дорожками. Расстояние от лампы до платы примерно 15-20 см.
После засветки — снимаем стекло, фотошаблон и можно проявлять. Для проявки используется раствор кальцинированной соды. Её можно купить в большинстве хозяйственных магазинов. При отсутствии в крайнем случае можно попробовать крепкий раствор пищевой соды или, если есть, слабый раствор щёлочи (например, «Крот» для промывки канализационных труб или ему подобное средство). Я использую вот такую:
Концентрация раствора — на глаз. Но без фанатизма. Воду наливать желательно слегка тёплую.
Погружаем нашу плату в раствор. Почти сразу вы увидите проявляющийся рисунок.
Для ускорения проявки я использую мягкую кисточку. Можно поочерёдно окунать в соду и смывать под струйкой воды из крана.
Сушим. Если плата односторонняя подправляем при наличии мелкие недочёты. Я использую тонкий перманентный маркер.
Если плата двухсторонняя, повторяем все действия для второй стороны, начиная от нанесения фоторезиста. Важно! При проявке второй стороны, не забываем проверять первую, на неё наверняка попадёт фоторезист через просверленные отверстия. Просто смываем его проявочным раствором.
После нанесения рисунка на плату — переходим к травлению. Здесь всё стандартно. Я предпочитаю медный купорос, иногда, если есть — хлорное железо. Грею на водяной бане. Крайне не рекомендую травить в перекиси водорода с лимонной кислотой. Не знаю, как всё получается в множественных видео на ютубе, но у меня от пузырьков отваливался и плёночный и баночный фоторезист.
Готовый результат после травления:
Осталась самая малость — очистить плату от краски.
В идеале можно опустить плату в раствор «Крота», краска размякнет и отвалится. Получается идеально! Но для этого нужно дополнительное время и химикаты. Я просто удаляю краску с помощью не очень острого кухонного ножа. Получается не очень чисто, но лужению дорожек не мешает.
В принципе — плата готова. Если вы сразу не просверлили отверстия, то лучше это сделать на данном этапе.
Также на этом этапе для двухсторонних плат я делаю переходные отверстия (именно отверстия, а не соединения). Для этого я купил на Aliexpress набор заклёпок (или пистонов) для печатных плат. Я брал размером 0,9х2,5 мм. Это самый маленький размер. Подходят для ножек DIP микросхем, тонких резисторов и конденсаторов и др. Штыревые разъёмы «мамки» еще можно запихать, «папки» уже не влазят. На фото ниже также запечатлён самодельный заклёпочник, выточенный из обычного гвоздя в обычной дрели обычным надфилем.
Расклёпываю молотком, плату ложу на второй молоток.
Готовый результат на картинке ниже.
Черные стрелки указывают на готовые отверстия, синяя — на ещё не расклёпанный пистон.
Теперь можно нанести защитный слой на дорожки. Паяльная маска — слишком трудоёмка и дорога. Поэтому я просто залуживаю дорожки и полигоны. Тут уже на любителя. Можно сплав Розе, можно «Жидкое олово» (мне не очень понравилось, раствор быстро выдыхается, слой тонковат и паяется плохо) или самый дешёвый вариант — вручную. Я использую флюс СКФ (это раствор канифоли в спирте, он очень дешёвый и достаточно эффективный). Также им хорошо паять мелкие микросхемы.
Фото не очень хорошего качества. Может показаться, что дорожки с дефектами, но это блеск олова с флюсом.
Далее можно запаивать соединения между слоями платы и детали.
Как обычно накосячил при разводке платы, пришлось «кидать соплю». Очень огорчаюсь, когда так получается. Еще раз повторю — проверяйте трижды плату при разводке!
Качество платы, конечно, далеко от идеала (до «Резонита» или «PcbWay» далеко).
Но для домашних поделок очень даже сносно. А главное — дёшево и быстро. При определённой сноровке вы будете штамповать платы данным методом на раз-два! И вряд ли захотите возвращаться к ЛУТу, если использовали его раньше. И не забываем, что фотошаблоны для данного метода можно использовать сколько угодно раз!
На этом, пожалуй, всё. Всем удачи в вашем хобби. Надеюсь, моя статья поможет освоить данный метод новичкам, а бывалые найдут в ней полезные моменты для себя.
Теги:
- Фоторезист
СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ФОТОРЕЗИСТА MS-3588 ZTW (КИТАЙ), Экологически чистый состав для снятия фоторезиста. Состав широкого спектра действия: кислое травление; щелочное травление; селективное снятие фоторезиста; подходит для HDI, mSAP и т.д. Платы с тонкими линиями и высокой плотности. СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ФОТОРЕЗИСТА MS-358А ZTW (КИТАЙ), Это одножидкостная система, подходящая для снятия фоторезиста с покрытий олова, свинцового олова, золота и никеля.
СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ЗАЩИТНОЙ МАСКИ и маркировочных чернил MS-68 ZTW (КИТАЙ), Быстро и эффективно удаляет защитную маску.СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ФОТОРЕЗИСТА MS-3588
ZTW (КИТАЙ)
Экологически чистый состав для снятия фоторезиста.
Состав широкого спектра действия: кислое травление; щелочное травление; селективное снятие фоторезиста; подходит для HDI, mSAP и т.д. Платы с тонкими линиями и высокой плотности.
Преимущества:
1. Время снятия на 30% быстрее, чем у NaOH.
2. Не воздействует на медную поверхность, содержит защитное средство для металлов, может эффективно защитить поверхность олова или другие покрытия.
3. Остатки фоторезиста имеют гранулированный вид и средний размер.
4. Низкий уровень ХПК, отсутствие аммиачного азота.
5. Подходит для распыления и погружения.
Характеристики
Товар | Вид | Удельный вес (g/cm3) | Упаковка | Срок годности |
MS-3588 | Бесцветная или бледно-желтая прозрачная жидкость | 1. | 20л | 12 месяцев |
25-1.35СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ФОТОРЕЗИСТА MS-358А
ZTW (КИТАЙ)
Это одножидкостная система, подходящая для снятия фоторезиста с покрытий олова, свинцового олова, золота и никеля.
Преимущества:
1. Состав последнего поколения, который может эффективно удалять различные типы водорастворимых фоторезистов.
2. Не вызывает коррозии защитных покрытий, таких как свинец, олово и т.д.
3. Эффективно контролируется размер частиц, отделяемых от фоторезиста, которые легко фильтровать и удалять.
4. Подходит для распыления и погружения.
Характеристики
Товар | Вид | Удельный вес (g/cm3) | Упаковка | Срок годности |
MS-358 | Бесцветная прозрачная жидкость | 1. | 20л | 12 месяцев |
00-1.10
СОСТАВ ДЛЯ СНЯТИЯ ЗАЩИТНОЙ МАСКИ и маркировочных чернил MS-68
ZTW (КИТАЙ)
Быстро и эффективно удаляет защитную маску.
Преимущества:
1. Короткое рабочее время, повышенная эффективность и более стабильная работа.
2. Замачивание печатных плат перед обжигом не приведет к повторному прилипанию чернил и царапинам на плате.
3. Состав хорошо защищает поверхность платы и позволяет пропитывать ее в течение более длительного периода времени без появления белых пятен, в результате чего структура маски разрушается и удаляется.
4. Для сквозных отверстий меньшего размера защитная маска в
отверстиях быстро растворяется.
После замачивания промойте водой под высоким
давлением, чтобы вымыть маску из отверстий.
5. Термоотверждаемые маркировочные чернила легко отслаиваются, за исключением больших участков, которые трудно и долго снимаются. На платах, которые были замочены в течение длительного времени, не образуются белые пятна.
Характеристики
Товар | Вид | Удельный вес (g/cm3) | Упаковка | Срок годности |
MS-68 | Бесцветная прозрачная жидкость | 1. | 20л | 12 месяцев |
15-1.20
Назад к списку
Руководство ведущих китайских производителей фоторезистов
Со второй половины 2020 года процветание мировой полупроводниковой промышленности продолжает расти, и рынок фоторезистов не является исключением.
Китайские производители пластин начали экспериментировать с китайскими фоторезистами, что в определенной степени ускорило разработку китайских фоторезистов. В настоящее время RED AVENUE и Jingrui поставляют продукцию многим последующим производителям, а фоторезистивная продукция Nata, SIN YANG, Kuangshun, PhiChem и других производителей также значительно ускорилась.
Ⅰ Что такое фоторезист? Фоторезист представляет собой среду для переноса рисунка, в которой используются фотохимические реакции для переноса требуемых тонких узоров с маски на подложку для обработки в процессе фотолитографии.
Он состоит из пленкообразователей, фотосенсибилизаторов, растворителей и добавок, а также других основных химических компонентов и других вспомогательных средств. Состав агента широко используется при обработке и производстве микросхем в оптоэлектронной информационной индустрии. Это ключевой материал для технологии микрообработки.
В процессе фотолитографии фоторезист равномерно наносится на различные подложки, такие как кремниевые пластины, стекло и металлы. После экспонирования, проявления и травления рисунок на маске переносится на пленку для формирования и маскирования. По эффекту отображения фоторезисты можно разделить на позитивные фоторезисты и негативные фоторезисты . Если неэкспонированная часть растворяется в проявителе во время проявления, формируется рисунок, противоположный маске, который называется негативным фоторезистом. Если открытая часть растворяется в проявителе во время проявления, формируется рисунок, аналогичный маске, который называется позитивный фоторезист .
В соответствии с классификацией длины волны воздействия, его можно разделить на ультрафиолетовый фоторезист (300~450 нм), глубокий ультрафиолетовый фоторезист (160~280 нм), экстремальный ультрафиолетовый фоторезист (EUV, 13,5 нм), электронно-лучевой фоторезист, ионно-лучевой фоторезист фоторезист Резист, рентгеновский фоторезист и т. д. Вообще говоря, чем короче длина волны, тем лучше разрешение обработки.
Подложка со слоем фоторезистивной пленки
В соответствии со сценариями применения, три основные области применения фоторезистов — это печатные платы, ЖК-дисплеи и полупроводники. Фоторезист, используемый для печатной платы и панели дисплея, не требует высокого разрешения. В настоящее время фоторезисты для полупроводников в основном делятся на пять категорий: фоторезист g-line , фоторезист i-line , фоторезист KrF , фоторезист ArF и фоторезист EUV 9 0008 .
С непрерывным развитием процесса производства чипов требования к разрешению фоторезиста становятся все выше и выше, от микронного до наноуровня травления, а в будущем даже травления атомарного уровня.
Основные разновидности и применение фоторезистов:
Применение | Основные разновидности 90 003 | Основное применение |
Semiconductor | g-line фоторезист | 6-дюймовая пластина |
i-line фоторезист | 6-дюймовая, 8-дюймовая пластина 900 62 | |
Фоторезист KrF | 12-дюймовая пластина | |
Фоторезист ArF | 9 0002 2-дюймовая пластина | |
EUV-фоторезист | 2-дюймовая пластина | |
LCD | Цветной фоторезист, черный фоторезист | Используется для подготовки цветных фильтров |
Фоторезист для сенсорного экрана | Используется для нанесения ITO на стеклянные подложки | |
TFT-LCD позитивный фоторезист | Обработка микрографики | |
Печатная плата | Сухой фоторезист | Обработка микрографики |
Фоторезист на мокрой пленке | Обработка микрографики | |
Фотомаска для пайки | Обработка микрографики |
Согласно данным, опубликованным известной французской исследовательской организацией Reportlinker, в 2019 г.
наибольшая доля применения фоторезиста в мире на плоскопанельных дисплеях ( ЖК) поле, около 27,8%; в то время как доли применения в областях печатных плат и полупроводников составляли 23% и 21,9% соответственно.
Доля применения на рынке фоторезистов в 2019 г.:
Приложения | Доля рынка |
27,80% | |
Печатная плата | 23% | 90 075
Semiconductor | 21,9% |
Прочие | 27,30% | 90 075
Сырье для производства фоторезиста включает фоторезистивные смолы, мономеры, фотоинициаторы (в том числе фотосенсибилизаторы, фотокислотные генераторы) и другие добавки.
Данные показывают, что смола составляет 50% от общей стоимости фоторезистов, и на нее приходится наибольшая доля сырья для фоторезиста, за которой следуют мономеры, составляющие 35%, и фотоинициаторы и другие добавки, составляющие 15%.
С быстрым развитием индустрии электронной информации общий спрос на рынок фоторезистов продолжает расти. Согласно данным Cision, в 2019 году общий объем мирового рынка фоторезистов составлял 9,1 млрд долларов США, а к 2022 году ожидается, что он достигнет 10,5 млрд долларов США, при этом среднегодовой темп роста составного соединения составит 5%.
Будучи крупнейшим в мире импортером и экспортером электронной продукции, Китай занимает наибольшую долю рынка фоторезистов. Масштабы китайского рынка фоторезистов быстро расширяются. Согласно данным SEMI, объем китайского рынка фоторезистов вырос с 10 млрд юаней в 2015 году до 17,6 млрд юаней в 2020 году, при этом среднегодовой темп роста совокупного состава составляет 12,0%.
Однако из-за чрезвычайно высоких отраслевых барьеров мировой рынок поставок полупроводниковых фоторезистов сильно сконцентрирован, а основная технология находится в руках нескольких крупных международных производителей. На долю японских компаний JSR, Tokyo Onika, Shin-Etsu Chemical и Fujifilm приходится более 70% мирового производства. Доля рынка, занимающая монопольное положение на рынке. На мировом рынке полупроводниковых фоторезистов абсолютная монополия принадлежит японским компаниям.
Доля мирового рынка фоторезистов в 2019 г.:
Производитель | Доля рынка |
28% | |
Токио Оника | 21% | 900 75
Rohm and Haas | 15% |
Shin-Etsu Chemical | 13% |
Fujifilm | 10% |
Другие | 13% |
Китайские компании по производству фоторезистов значительно отстают от передовых мировых производителей по технологическому уровню и доле рынка.
В настоящее время, несмотря на то, что китайские фоторезисты занимают место на мировом рынке недорогих товаров, фоторезисты высокого класса в основном зависят от импорта.
С точки зрения сегментации рынка, в области фоторезиста для печатных плат чернила для влажной пленки и паяльной маски в основном достигли самодостаточности, при этом коэффициент конверсии в Китае превышает 50%, в то время как сухой пленочный фоторезист по-прежнему необходимо импортировать в больших количествах, и основными районами поставок являются Япония и Китай Тайвань.
Основными областями производства фоторезиста для плоских дисплеев являются Япония, Южная Корея и Тайвань, Китай. Уровень локализации цветного фоторезиста и черного фоторезиста в Китае составляет всего 5%. После приобретения бизнеса LG Chem в этом секторе компания Jacques Technology стала крупнейшим поставщиком в Китае. Большая часть производственных мощностей фоторезиста TFT в материковом Китае по-прежнему зависит от импорта.
Фоторезист для полупроводников имеет меньшую степень локализации в Китае и в основном монополизирован японскими компаниями.
Китай осуществляет локализацию только G-линии, i-линии, KrF и ArF, и большая часть поставок — это фоторезисты G-линии и i-линии, в то время как высококачественный фоторезист EUV все еще находится на ранней стадии развития. .
С конца прошлого года поставки фоторезиста и другого сырья, необходимого интегральным схемам компаний, находятся в кризисе. В последнее время большое внимание привлекла новость о том, что «более 20 компаний зафрахтовали «групповую закупку» фоторезиста, жидкости, образующей антибликовую пленку, и других сопутствующих материалов для производства интегральных схем», что отражает актуальность рынка фоторезистов.
В связи с продолжающимся глобальным «приливом нехватки ядер» и сокращением поставок японской компании Shin-Etsu Chemical китайские производители пластин также осознали важность обеспечения безопасности цепочки поставок производства полупроводников и достижения независимой управляемости, и начали попробуйте китайские фоторезисты.
В определенной степени это ускорило скорость разработки фоторезиста в Китае.
Несмотря на то, что барьеры высокого класса фоторезиста относительно высоки, многие производители в Китае активно внедряют их, включая RED AVENUE, Jingrui, Nata, SIN YANG, Kuangshun, HMT и других производителей.
RED AVENUE недавно заявила на интерактивной платформе, что в первой половине 2021 года Beijing Kehua, дочерняя компания компании, воспользовалась возможностью, связанной с нехваткой поставок полупроводниковых фоторезистов в Китае, и продолжила прилагать усилия для разработки линий GI и KrF. фоторезист. Это была единственная китайская компания по производству фоторезистов, включенная в список SEMI, одной из восьми ведущих компаний по производству фоторезистов в мире.
В первой половине года RED AVENUE сотрудничала с основными китайскими компаниями по производству интегральных схем, такими как SMIC, Hua Hong Semiconductor, Huali Microelectronics, Yangtze River Storage и т.
д., и запустила 49 научно-исследовательских проектов, из которых более 70% проекты были адаптированы для нужд клиентов с диагональю экрана 8 и 12 дюймов. Многие новые продукты были отгружены в больших объемах. Все 6-дюймовые клиенты в Китае сотрудничают или находятся в стадии разработки. Фоторезисты линейки G/I занимают более 60% рынка 6-дюймовых дисплеев; количество 8-дюймовых пользователей увеличилось до 15, а количество 12-дюймовых пользователей увеличилось до 8 за многие годы. Стабильное массовое производство и поставки последующим клиентам.
Большой объем продукции также способствовал ее быстрому росту. В первом полугодии бизнес по производству фоторезистов Beijing Kehua Semiconductor получил операционную прибыль в размере 56,4783 млн юаней, увеличившись на 46,74% в годовом исчислении. Фоторезисты линейки G/I для полупроводников выросли на 40,36% по сравнению с прошлым годом, а фоторезисты KrF по сравнению с прошлым годом увеличились на 94,51%. В первой половине года пользователям, таким как Yangtze River Storage, SMIC North, Guangzhou Yuexin, Xiamen Silanjike и т.
д., было добавлено 10 новых продуктов, включая фоторезист KrF, высококачественный фоторезист I-линии и химически усиленный фоторезист I-линии. . Заказ.
Являясь одним из производителей фоторезистов с самой долгой историей и крупнейшими поставками в Китае, Jingrui предлагает полный ассортимент продукции, масштабы индустриализации и прибыльность на ведущем уровне в отрасли. Среди них фоторезисты линии g/i были проданы компании SMIC, Hefei Changxin и другим известным производителям крупногабаритных полупроводников. Фоторезист KrF (глубокий ультрафиолет 248 нм) прошел пилотные испытания и перешел на стадию испытаний у заказчика. После того, как тест пройден, он может перейти на стадию серийного производства. Официально начаты исследования и разработки высококачественного фоторезиста ArF с целью разработки ArF (193nm) фоторезиста, который соответствует 90-28nm чип-технологии и соответствует текущему рыночному спросу на ключевые материалы в индустрии интегральных схем .
Ната сообщила, что компания построила линию по производству фоторезиста ArF с годовой производительностью 25 тонн. Он подписал заказ на небольшую партию и еще не начал серийное производство. И SIN YANG также заявила, что фоторезисты KrF, самостоятельно разработанные компанией, прошли сертификацию клиентов и успешно получили заказы. Кроме того, фоторезисты Kuangshun и PhiChem находятся на стадии поставки образцов.
Что касается литографических коллагеновых материалов, то китайские производители также ускоряют их развертывание. Например, HMT занялась производством фоторезистивных мономеров, инвестировав в Xuzhou Bokang. Основные мономерные продукты Xuzhou Bokang включают 5 типов мономеров ArF мокрого способа, 5 типов мономеров ArF сухого процесса и 6 типов мономеров KrF. В первой половине 2021 года объем поставленных заказчику фоторезистивных мономеров KrF и фоторезистивных мономеров ArF достиг 12,85 млн юаней. Что касается продуктов фоторезиста, Xuzhou Bokang поставляет 4 типа фоторезиста KrF дистрибьютору производителей радиочастотных чипов.
В сотрудничестве с производителем специальных микросхем памяти Xuzhou Bokang уже поставила фоторезист ArF в небольших количествах.
В области мономеров также были запущены в производство Wanrun (мономер клея ArF/KrF), новый материал Ruilian и новый материал Microcore (мономер клея KrF), но объем невелик. В области смолы, хотя Shengquan Group является компанией по производству фенольных смол, ее основная область применения по-прежнему находится в области неэлектронных материалов.
В области фотоинициаторов Qiangli New Materials имеет определенную рыночную конкурентоспособность. Его основным направлением деятельности являются фотоинициаторы фоторезистов, а мощность производства только фотоинициаторов для фоторезистов составляет около 1600 тонн в год. В Китае Jiangsu Hualun, Jiangsu Tianyin Chemical, Baichuan Co., Ltd. и Yida Co., Ltd. имеют крупномасштабное производство ацетата метилового эфира пропиленгликоля электронной марки.
В целом, полупроводниковый фоторезист Китая постепенно достиг технологических прорывов, и фоторезист линии g/i постепенно формировал производственные мощности; Фоторезист KrF находится в стадии массовой поставки, фоторезист ArF находится в стадии проверки и внедрения, клей EUV для литографии находится в предварительной стадии исследований и разработок.
Поскольку китайские компании продолжают делать крупные прорывы в производстве высококачественных фоторезистов, процесс замещения в Китае будет ускоряться.
photoresist — Китайский перевод – Linguee
光阻 n ()
Примеры:
См. альтернативные переводы© Linguee Dictionary, 2023
900 54Ключевые продукты включают склеивание пластин,
[…]литография/наноимпринт литография (NIL) и метрология
[…] оборудование, а также l a s фоторезист c или в ers, уборщики […]и системы контроля.
Tipschina.gov.cn
Tipschina.gov.cn
Tipschina.gov.cn
Tipschina.gov.cn
..]второй слой.
jove.com
jove.com
jove.com
jove.com
ПЬЕШТАНИ, Словацкая Республика — завод ON Semiconductor Пьештяны
[…]сократил использование серной кислоты, перекиси водорода и деионизированной воды на
[…] установка нового o zo n e фоторезист s t ri процесс пинга.onsemi.com
onsemi.com
斯洛伐克共和国PIESTANY –
[…] 安森美半导体Piestany通过运用新的 臭 氧 光阻剥 除工 艺减 少使用硫磺酸、过氧化氢和去离子水。onsemi.cn
onsemi.cn
..]складной.
jove.com
jove.com
jove.com
jove. ком
Наши комплексные решения для регенерации растворителей, дистилляции и сокращения выбросов ЛОС/ГАП используются в таких отраслях, как: Глубокая печать (публикации, упаковка и продукция) Бумажная пленка и покрытие фольгой (магнитные носители, клейкая лента) Фармацевтика ( покрытие таблеток, сушка в псевдоожиженном слое, вентиляционные отверстия конденсатора) Резина (одеяла для офсетной печати, перчатки, прокладки) Производство синтетических пленок и волокон (мембраны, сепараторы батарей) Химическая промышленность
[…]производство (перекись водорода, боеприпасы)
[…] Электрон ic s ( фоторезист ) P la стики (пена) […]Автомобильная аэрокосмическая промышленность Пищевые продукты Обезжиривание
[.
..]Рекультивация (удаление почвенных паров; воздушные стрипперы) Очистка сточных вод (удаление растворителей) В системах регенерации растворителей MEGTEC используются системы адсорбции регенерируемого паром угля для удаления и извлечения растворителей из технологического потока, а также системы дистилляции растворителей, смешивающихся с водой, для разделения растворителей из воды и отделить их друг от друга и очистить их.
china-environmental.com
china-environmental.com
用于溶剂回收，蒸馏，和VOC / HAP排放消减我们的集成解决方案已被用于工业，如： 凹印印刷（出版物，包装及产品） 纸膜箔涂层（磁介质，胶带）
[…]药品（片剂涂层，流化床干燥，冷凝器通风孔） 橡胶（胶印毛毯，手套，垫圈）综合电影及纤维制造（膜，电池隔膜）
[…] 化学制造业（过氧化氢，弹药） 电 子（ 光 阻 ） 9 0436 塑 料 （泡 沫） 汽车 航空航天 食品 脱脂 […]修复（土壤蒸气萃取;空气脱衣舞） 废水处理（溶剂去除） 溶剂回收系统的MEGTEC利用蒸汽再生碳吸附系统，以删除和恢复的过程流与水混合溶剂和蒸馏系统，从水中分离溶剂和它们彼此分开，净化他们的溶剂。
china-environmental.com
china-environmental.com
Является ли проблема контаминацией при ССЗ, мощность
[.
..]
поставка в e tc h , фоторезист m o ni 90 436 разрывает […]литография или расширенное моделирование для повышения урожайности
[…] Прогноз, инженеры INFICON имеют опыт и знания.
inficonvacuumcoating.com
inficonvacuumcoating.com
无论是 CVD
[…] 中的污染问题、蚀刻中的功率输出问题 、 光刻 中 的光 阻监 控 问题 ，还是用于预测产量的高级建模问题，INFICON [. ..]inficonvacuumcoating.com
infoconvacuumcoating.com
Что касается пункта 11(с), расходы в размере 10 330 000 долл. США относятся к расходным материалам и оплате аналитических работ и чистых помещений; химикаты и материалы для различных
[…]эксперименты, т.е.
[…] жидкие кристаллы, кремний и стеклянная пластина er s , фоторезисты , p 9043 5 ho tomask, чистящие средства для пластин, [.
