Site Loader
Posted on 10.03.2023

Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

Вход

Если у Вас есть зарегистрированный акаунт,
пожалуйста авторизуйтесь

Восстановление пароля

Ссылка на страницу изменения пароля будет отправлена на адрес Вашей электронной почты.

Вернуться на форму авторизации

ГлавнаяИнструментыПаяльное оборудованиеПрипои флюсыTdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

{{:description}}

{{:price}}

{{:name}}

Достоинства

{{:advantages}}

Недостатки

{{:disadvantages}}

Комментарий

{{:comment_divided}}

{{:product_score_stars}}

{{:useful_score}}

{{:useless_score}}

Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия «Алмаз» TDM

Купить по низким ценам Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

Описание Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

Назначение

  • Для достижения повышенной механической прочности и электропроводности в процессе пайки проводников или элементов радиоэлектроники.

Применение

Припои
  • В промышленности и в быту для лужения проводников и пайки радиоэлектронных компонентов при необходимости невысокого нагрева в зоне пайки.
  • Для скрепления швов во время ремонта металлических изделий из меди, стали, латуни, бронзы.
Флюсы
  • Используются для удаления оксидных пленок и загрязнений со спаиваемых поверхностей для достижения высокого качества пайки.

Преимущества

  • Припои поставляются на катушках со сквозным отверстием для удобства использования во время пайки.
  • Равномерное заполнение трубки флюсом способствует качественной пайке и небольшому расходу припоя.
  • Флюсы поставляются в удобной пластиковой таре с плотно закрывающимися крышками.
  • Широкий ассортимент флюсов позволяет проводить качественную пайку как низкотемпературными, так и высокотемпературными припоями.
    Наименование параметраЗначение
    Диаметр припоя с канифолью / проволоки, мм1 или 2
    Масса катушек с припоем / проволокой, г100 или 200
    Длина припоя спирали (арт. SQ1025-0301), м2
    Масса канифоли, г20 или 100
    Объём жидких флюсов во флаконах, мл30
    Масса порошковых и гелеобразных припоев, г20
    Марка припояТемпература плавления, ˚ССоставОбласть применения
    ПОС 40183-238Sn 40%, Pb 60%для пайки медных, стальных, латунных деталей и элементов с целью создания механически прочного (иногда герметичного) шва или для получения электрического контакта с малым переходным сопротивлением
    ПОМ-3230-250Sn 97%, Cu 3%для пайки меди, латуни, оловянно-медных изделий, применяется для изготовления припойных паст, пайки теплообменников в машиностроении и пайки фитингов медных труб
    ПОСу 95-5234-240Sn 95%, Sb 5%для пайки латуни, железа, меди, абразивной пайки, пайки тонколистовых материалов, для электротехнической пайки при производстве электроламп
    ПОСК 50-18142-145Sn 50%, Pb 32%, Cd 18%применяется для ступенчатой пайки конденсаторов и полупроводниковой техники, пайки посеребренных деталей, лужения ювелирных изделий
    Наименование флюсаОбласть применения
    Флюс активный ПКОчистка поверхности от оксидной плёнки перед пайкой, улучшение растекания жидкого припоя.
    Пайки радиодеталей, меди и её сплавов, стальных и оцинкованных изделий. Улучшает качество пайки, защищая от окисления.
    Флюс активный ФТКАПайка алюминия и его сплавов, защита от окисления.
    Флюс активный ЛТИ-120Очистка поверхности от оксидной плёнки во время пайки и лужения нержавеющей стали, меди, цинка, серебра, палладия, нихрома и различных сплавов
    Флюс активный ТАГСПайка углеродистой стали, меди, никеля и их сплавов
    Флюс активный СКФПайка меди и медных сплавов. Улучшает качество пайки, образуя непроводящий защитный слой между паяемыми деталями на платах и схемах.
    Флюс активный ОКПайка сталей различной степени легированности, черных металлов, никеля, меди и сплавов. Улучшает качество пайки, растворяя оксидные плёнки на поверхности
    Флюс активный Ф-38НПайка нихрома, константана, бериллиевой бронзы, коррозийно-стойкой стали, медных сплавов, латуни, бронзы
    Флюс для пайки, БУРАПрименяется в ювелирном деле, а также для пайки нержавеющих и жаропрочных сталей, чугуна и меди высокотемпературными медными латунными золотыми и серебряными припоями.
    Флюс для пайки, паста паяльная канифольно-вазелиноваяПайка медных электротехнических деталей, радиоэлектронных элементов и печатных плат легкоплавкими припоями.
    Флюс для пайки, паяльный жир нейтральныйДля качественной пайки радио- и электротехнических приборов легкоплавкими припоями. Хорошо удаляет оксидные плёнки и загрязнения со спаиваемых поверхностей
    Флюс для пайки, паяльный жир активныйПайка углеродистых сталей, меди и никеля низкотемпературными припоями.

Технические характеристики Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

  • Ширина 10 см
  • Высота 10 см
  • org/PropertyValue»> Глубина 10 см
  • Вес 1 кг
  • Единица измерения шт
  • Кратность поставки 30

Заказ в один клик

Мы позвоним Вам в ближайшее время

Несоответствие минимальной сумме заказ

Минимальная сумма заказа 1 500,00 ₽

Просьба увеличить заказ.

Гарантия производителя 1 год

Компания TDM сегодня занимает лидирующие позиции по производству и поставкам различной светотехники, источников света, низковольтной аппаратуры, электромонтажных изделий, коробов и ящиков электрощитов, электро установочных изделий, удлинителей, розеток и прочей техники под собственной торговой маркой TDM ЕLECTRIC.

  На просторах  России и стран СНГ компания  TDM  уверенно выбилась в лидеры  электрической промышленности.

Срочная доставка день в день

Объемный вес: 1 кг

Габариты: 10x10x10

* только для города Москва

Самовывоз по РФ

Объемный вес: 1 кг

Габариты: 10x10x10

 

Выберите пункт самовывозаМосква, ул. веерная, дом 7 к.2, офис 2

Доставка курьером по РФ

Объемный вес: 1 кг

Габариты: 10x10x10

По России:

Собственная служба доставки 350 ₽ 2-3 дней
Почта России уточнять 3-20 дней
ПЭК уточнять 2-7 дней
СДЭК Экспресс лайт уточнять 2-7 дней
СДЭК Супер Экспресс уточнять 2-4 дней
Деловые Линии уточнять 2-7 дней
Pony Express уточнять 2-7 дней
DPD уточнять 2-7 дней
DHL уточнять 2-7 дней
Boxberry уточнять 2-7 дней
ЖелДорЭкспедиция уточнять 3-10 дней
Байкал Сервис уточнять 2-10 дней
Энергия уточнять 2-7 дней

Tdm Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия Алмаз SQ1025-0374

Артикул: SQ1025-0374

Флюс активный ТАГС, глицерин-анилиновый, 30 мл, серия «Алмаз» TDM

Объемный вес: 1 кг

Габариты: 10x10x10

В наличии

95,45 ₽ Скидка 36% 61,09 ₽

  • От 20 шт:

    61,09 ₽

    59,87 ₽

  • От 40 шт:

    59,87 ₽

    58,04 ₽

Задать вопрос

Мы позвоним Вам в ближайшее время

Номер телефона

Вопрос

Заказ на обратный звонок

Мы позвоним Вам в ближайшее время

Номер телефона

Вопрос

Обратный звонок

Мы позвоним Вам в ближайшее время

Номер телефона

Вопрос

Флюс-люкс Анилиновый, актив 30мл А030050

fix:

г. Архангельск, ул. Иоанна Кронштадтского, д. 16:

  —  мало

г. Астрахань, ул. Савушкина, д. 46:

  —  мало

г. Волгоград, ул. Рабоче-Крестьянская, д. 14:

  —  отсутствует

г. Воронеж, ул. Фридриха Энгельса, д. 56:

  —  отсутствует

г. Екатеринбург, ул. Героев России, д. 2, ТЦ Свердловск:

  —  мало

г. Екатеринбург, ул. Уральская, д. 3:

  —  достаточно

г. Иваново, проспект Ленина, д.9:

  —  мало

г. Ижевск, ул. Вадима Сивкова, д.150, ТЦ Европа:

  —  мало

г. Казань, ул. Декабристов, д. 158:

  —  мало

г. Казань, ул. Спартаковская, д. 2, ТК «Караван галерея»:

  —  мало

г. Калининград, ул. Генерала Соммера, дом 9-11:

  —  отсутствует

г. Кемерово, ул. Пролетарская, д.3:

  —  мало

г. Кострома, ул. Советская, д. 119, пом. 48:

  —  мало

г. Краснодар, ул. Коммунаров, д. 102:

  —  мало

г. Краснодар, ул. Тургенева д 35/1:

  —  достаточно

г. Красноярск, ул. Вавилова, д.1, стр.39, ТК «Атмосфера», пав. 11:

  —  мало

г. Москва, Багратионовский пр-д, 7, ТЦ «Горбушкин Двор», пав. С2-006а:

  —  мало

г. Москва, Варшавское шоссе, вл. 132/2, пав. М-1:

  —  мало

г. Москва, Пятницкое ш., 18, ТК «Митинский радиорынок», пав. 401/402, 1-й этаж:

  —  мало

г. Москва, ул. Генерала Белова, д. 29, ТЦ Фея:

  —  мало

г. Москва, ул. Профсоюзная, 56, ТЦ «Черемушки», пав. 1Г14:

  —  достаточно

г. Москва, ул. Сущевский вал, д. 5 стр. 12, пав. Л-140:

  —  мало

г. Москва, ул. Сущевский вал, д. 5 стр. 20, ТЦ «Савеловский», пав. К-3:

  —  мало

г. Набережные Челны, Московский проспект, д. 126А, ТК «Кама»:

  —  мало

г. Нижний Новгород, ул. Композитора Касьянова, д. 6 Г, модуль 4, отдел Е1:

  —  отсутствует

г. Нижний Новгород, ул.Советская, д. 12:

  —  отсутствует

г. Новокузнецк, проспект Курако, д. 16:

  —  мало

г. Новосибирск, ул. Крылова 26, ТЦ Москва:

  —  мало

г. Омск, пр-т Карла Маркса. д. 29 А:

  —  мало

г. Пенза, ул. Володарского 78 (угол с ул. Бакунина, д.62):

  —  мало

г. Пермь, ш. Космонавтов, 10А:

  —  мало

г. Ростов-на-Дону, ул. Серафимовича, д. 50:

  —  мало

г. Рязань, пр-т Первомайский, дом 21/24:

  —  мало

г. Самара, ул. Победы д. 105:

  —  мало

г. Самара, ул. Победы, д. 81 (вход с ул. Средне-Садовая):

  —  мало

г. Санкт-Петербург, Московский пр., д.193:

  —  отсутствует

г. Санкт-Петербург, пр. Энгельса, д.137, лит А:

  —  мало

г. Санкт-Петербург, Столярный пер., д. 7:

  —  мало

г. Санкт-Петербург, ул, Дыбенко, д.20, к.1:

  —  мало

г. Санкт-Петербург, ул. Ильюшина, д. 8:

  —  отсутствует

г. Санкт-Петербург, ул. Марата, д. 22-24:

  —  мало

г. Саратов, ул. Московская, д. 106:

  —  мало

г. Смоленск, ул. Беляева, д. 6:

  —  мало

г. Ставрополь, ул. Лермонтова, д. 193:

  —  мало

г. Тольятти, ул. Революционная, д. 52, ТД ДБ «Орбита», 1 этаж, 111 секция:

  —  мало

г. Тюмень, ул. Герцена, д.95А:

  —  отсутствует

г. Уфа, ул. Комсомольская, д. 15 (вход со стороны ул. Бессонова):

  —  мало

г. Чебоксары, ул.Композиторов Воробьевых, д.20, ТРЦ «Дом Мод», 1-й этаж:

  —  мало

г. Челябинск, проспект Победы, д.162:

  —  мало

г. Челябинск, ул. Цвиллинга, д. 58:

  —  достаточно

г. Череповец, ул. Металлургов, д.7:

  —  отсутствует

г. Ярославль, ул. Свободы, д .13:

  —  отсутствует

ГО Сочи, г. Адлер, ул. Демократическая 53/А, ТЦ Пассаж:

  —  отсутствует

ОПТОВЫЙ СКЛАД: г. Москва, 2 хорошевский проезд, д. 7, стр.1:

  —  отсутствует

Управление потоком реактивных частиц: тематическое исследование осаждения тонких пленок в анилин/аргоновой плазме

. 2020 сен 28;10(1):15913.

doi: 10.1038/s41598-020-72634-y.

Д Шакуа 1 , С Паттин 1 , Ягодар 1 , Э фон Валь 1 , Т Лекас 1 , Т Струнскус 2 , Э Ковачевич 1 , Дж. Берндт 3

Принадлежности

  • 1 GREMI UMR 7344, CNRS/Université D’Orléans, 45067, Орлеан, Франция.
  • 2 Кафедра многокомпонентных материалов Института материаловедения Кильского университета, Киль, Германия.
  • 3 GREMI UMR 7344, CNRS/Université D’Orléans, 45067, Орлеан, Франция. [email protected].
  • PMID: 32985556
  • PMCID: PMC7522240
  • DOI: 10.1038/с41598-020-72634-й

Бесплатная статья ЧВК

D Sciacqua et al. Научный представитель .

Бесплатная статья ЧВК

. 2020 сен 28;10(1):15913.

doi: 10.1038/s41598-020-72634-y.

Авторы

Д Шакуа 1 , С Паттин 1 , Ягодар 1 , Э фон Валь 1 , Т Лекас 1 , Т Струнскус 2 , Э Ковачевич 1 , Дж. Берндт 3

Принадлежности

  • 1 GREMI UMR 7344, CNRS/Université D’Orléans, 45067, Орлеан, Франция.
  • 2 Кафедра многокомпонентных материалов Института материаловедения Кильского университета, Киль, Германия.
  • 3 GREMI UMR 7344, CNRS/Université D’Orléans, 45067, Орлеан, Франция. [email protected].
  • PMID: 32985556
  • PMCID: PMC7522240
  • DOI: 10.1038/с41598-020-72634-у

Абстрактный

Плазменный синтез тонких пленок часто используется для нанесения ультратонких пленок без точечных отверстий на широкий класс различных подложек. Однако синтез тонких пленок с помощью низкотемпературной плазмы довольно сложен из-за большого количества различных веществ (нейтралов, радикалов, ионов), потенциально участвующих в процессе осаждения. Этот доклад посвящен процессам полимеризации в емкостно-связанном разряде, работающем в смеси аргона и анилина, где последний является мономером, который используется для получения плазменно-полимеризованного полианилина, материала, относящегося к классу проводящих полимеров. В этой работе будет представлен особый экспериментальный подход, который позволяет (частично) различать вклад различных частиц в рост пленки и, таким образом, в определенной степени контролировать свойства получаемого материала. Контроль потока частиц, выходящих из плазмы и способствующих росту пленки, также проливает новый свет на процесс осаждения, в частности, в отношении роли ионной составляющей. Анализ полученных пленок был выполнен с помощью инфракрасной спектроскопии с преобразованием Фурье (FTIR) и спектроскопии тонкой структуры с рентгеновским поглощением на ближней границе (NEXAFS).

Заявление о конфликте интересов

w3.org/1998/Math/MathML» xmlns:p1=»http://pubmed.gov/pub-one»> Авторы заявляют об отсутствии конкурирующих интересов.

Цифры

Рисунок 1

Схема экспериментальной установки…

Рисунок 1

Схема экспериментальной установки.

Рисунок 1

Схема экспериментальной установки.

Рисунок 2

( a ) Общая схема…

Рисунок 2

( а ) Общая схема канального электрода и ( б )…

фигура 2

( a ) Общая схема канального электрода и ( b ) увеличение одного канала. Подложки располагают непосредственно под отверстиями (расстояние между образцом и электродом g = 0 см). В представленном здесь эксперименте металлическая пластина толщиной l = 3 см имеет всего 4 отверстия/канала диаметром 0,5, 1, 2 и 2,5 см. Чтобы оценить влияние отверстий, одну эталонную пластину помещают поверх металлической пластины во время экспериментов.

Рисунок 3

Ex-situ FTIR-спектры образцов…

Рисунок 3

Ex-situ FTIR-спектры образцов, помещенных в разные положения в процессе выращивания…

Рисунок 3

Ex-situ FTIR-спектры образцов, помещенных в разные положения в процессе роста. Черная линия показывает спектр образца, помещенного поверх электрода. Красная, синяя и зеленая линии показывают спектры образцов, помещенных под отверстия диаметром 2,5 см, 2 см и 1 см соответственно.

Рисунок 4

( и ) NEXAFS C…

Рисунок 4

( a ) NEXAFS C K-край и ( b ) N K-край спектры…

Рисунок 4

( a ) NEXAFS C K-край и ( b ) N K-край спектры тонких пленок, нанесенных на образцы кремния, расположенные в разных положениях: черная линия показывает спектр образца, помещенного сверху электрода, красная, синяя и зеленая линии показывают спектры образцов, помещенных под отверстия диаметром 2,5 см, 2,0 см и 1,0 см соответственно.

Рисунок 5

В ( и ) NEXAFS…

Рисунок 5

In ( a ) NEXAFS C K-кромка и in ( b ) N…

Рисунок 5

В ( a ) NEXAFS C-край и в ( b ) N K-край спектры образцов, помещенных под отверстие диаметром 2,5 см, которое либо закрыто сеткой (фиолетовый), либо открыто (красный). Зеленая линия показывает спектр образца, помещенного под отверстие диаметром 1,0 см для сравнения.

См. это изображение и информацию об авторских правах в PMC

Похожие статьи

  • Формирование и поведение отрицательных ионов в анилинсодержащей ВЧ-плазме низкого давления.

    Паттин С., Ковачевич Э., Струнскус Т., Лекас Т., Берндт Дж. Паттин С. и др. Научный представитель 2019 г. 26 июля; 9 (1): 10886. doi: 10.1038/s41598-019-47425-9. Научный представитель 2019. PMID: 31350525 Бесплатная статья ЧВК.

  • Оптимизация плазменной струи атмосферного давления с одноштифтовой конфигурацией электрода и ее применение для выращивания тонких пленок полианилина.

    Jung EY, Park CS, Jang HJ, Iqbal S, Hong TE, Shin BJ, Choi M, Tae HS. Юнг Э.Ю. и др. Полимеры (Базель). 2022 10 апреля; 14 (8): 1535. doi: 10.3390/polym14081535. Полимеры (Базель). 2022. PMID: 35458285 Бесплатная статья ЧВК.

  • Прозрачная тонкая полианилиновая пленка, синтезированная с использованием низковольтного плазменного реактора атмосферного давления.

    Kim JY, Iqbal S, Jang HJ, Jung EY, Bae GT, Park CS, Shin BJ, Tae HS. Ким JY и др. Материалы (Базель). 2021 8 марта; 14 (5): 1278. дои: 10.3390/ma14051278. Материалы (Базель). 2021. PMID: 33800238 Бесплатная статья ЧВК.

  • Окислительно-химическое осаждение из паровой фазы тонких пленок полианилина.

    Смолин Ю.Ю., Соруш М., Лау ККС. Смолин Ю.Ю. и соавт. Бейльштейн Дж. Нанотехнологии. 2017 16 июня; 8: 1266-1276. doi: 10.3762/bjnano.8.128. Электронная коллекция 2017. Бейльштейн Дж. Нанотехнологии. 2017. PMID: 28685127 Бесплатная статья ЧВК.

  • Плазменная полимеризация (2,2,6,6-тетраметилпиперидин-1-ил)оксила в столкновительном емкостно-связанном радиочастотном разряде.

    Барнс М.Дж., Робсон А.Дж., Надери Дж., Шорт Р.Д., Брэдли Дж.В. Барнс М.Дж. и соавт. Биоинтерфазы. 20 ноября 2020 г .; 15 (6): 061007. дои: 10.1116/6.0000662. Биоинтерфазы. 2020. PMID: 33218222

Посмотреть все похожие статьи

Рекомендации

    1. Чен ФФ. Промышленное применение физики низкотемпературной плазмы. физ. Плазма. 1995;2:2164. дои: 10.1063/1.871477. — DOI
    1. Фридрих Дж. Механизм плазменной полимеризации — обзор с химической точки зрения. Плазменный процесс. Полим. 2011;8(9):783–802. doi: 10.1002/ppap.201100038. — DOI
    1. Мишельмор А., Уиттл Дж. Д., Брэдли Дж. В., Шорт Р. Д. Там, где физика встречается с химией: осаждение тонких пленок из реактивной плазмы. Передний. хим. науч. англ. 2016; 4: 441–458. doi: 10.1007/s11705-016-1598-7. — DOI
    1. Hegemann D, Brunner H, Oehr C. Плазменная обработка полимеров для улучшения поверхности и адгезии. Нукл. Инструм. Методы физ. Рез. Б. 2003; 208: 281–286. doi: 10.1016/S0168-583X(03)00644-X. — DOI
    1. Васильев К., Мишельмор А., Гриссер Х.Дж., Шорт Р.Д. Влияние подложки на начальную фазу роста плазменно-осажденных полимерных пленок. хим. коммун. 2009; 24:3600–3602. doi: 10.1039/b

      7e. — DOI — пабмед

Управление потоком реактивных частиц: пример осаждения тонких пленок в анилин/аргоновой плазме

1. Чен Ф.Ф. Промышленное применение физики низкотемпературной плазмы. физ. Плазма. 1995;2:2164. дои: 10.1063/1.871477. [CrossRef] [Google Scholar]

2. Фридрих Дж. Механизм плазменной полимеризации — обзор с химической точки зрения. Плазменный процесс. Полим. 2011;8(9):783–802. doi: 10.1002/ppap.201100038. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

3. Мишельмор А., Уиттл Дж. Д., Брэдли Дж. В., Шорт Р. Д. Там, где физика встречается с химией: осаждение тонких пленок из реактивной плазмы. Передний. хим. науч. англ. 2016; 4: 441–458. doi: 10.1007/s11705-016-1598-7. [CrossRef] [Google Scholar]

4. Hegemann D, Brunner H, Oehr C. Плазменная обработка полимеров для улучшения поверхности и улучшения адгезии. Нукл. Инструм. Методы физ. Рез. Б. 2003; 208: 281–286. doi: 10.1016/S0168-583X(03)00644-X. [CrossRef] [Google Scholar]

5. Васильев К., Мишельмор А., Гриссер Х.Дж., Шорт Р.Д. Влияние подложки на начальную фазу роста плазменно-осажденных полимерных пленок. хим. коммун. 2009 г.;24:3600–3602. doi: 10.1039/b

7e. [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

6. Zhao H, et al. К практическому применению функционального токопроводящего полимерного связующего для конструкции литий-ионного аккумулятора высокой энергии. Нано Летт. 2014;14(11):6704–6710. doi: 10.1021/nl503490h. [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

7. Bowden MJ. Электронные и фотонные применения полимеров. Доп. хим. 1988;218(1):1–73. [Google Scholar]

8. Gong X, Dai L, Mau AWH, Griesser HJ. Плазмополимеризованные полианилиновые пленки: синтез и характеристика. Дж. Полим. науч. Часть А Полим. хим. 1998;36:633–643. doi: 10.1002/(SICI)1099-0518(199803)36:4<633::AID-POLA12>3.0.CO;2-N. [CrossRef] [Google Scholar]

9. Zeng XR, Ko TM. Зависимости структура-проводимость легированного йодом полианилина. Дж. Полим. науч. Б. 1996; 35:13. [Google Scholar]

10. Ray A, et al. Полианилин: легирование, структуры и производные. Синтез. Встретил. 1989;29(1):141–150. doi: 10.1016/0379-6779(89) -0. [CrossRef] [Google Scholar]

11. Hatchett DW, Josowicz M, Janata J. Кислотное легирование полианилина: спектроскопические и электрохимические исследования. Дж. Физ. хим. Б. 1999;103(50):10992–10998. doi: 10.1021/jp991110z. [CrossRef] [Google Scholar]

12. Chen SA, Chuang KR, Chao CI, Lee HT. Излучение белого света электролюминесцентным диодом с полианилином в качестве излучающего слоя. Синтез. Встретил. 1996; 82: 207–210. doi: 10.1016/S0379-6779(96)03790-3. [CrossRef] [Google Scholar]

13. Karg S, Scott JC, Salem JR, Angelopoulos M. Увеличение яркости и срока службы полимерных светоизлучающих полианилиновых диодов с анодами. Синтез. Встретил. 1996; 80: 111–117. дои: 10.1016/S0379-6779(96)03690-9. [CrossRef] [Google Scholar]

14. Yang Y, Heeger AJ. Полианилин как прозрачный электрод для полимерных светодиодов: более низкое рабочее напряжение и более высокий КПД. заявл. физ. лат. 1994;64:1245–1247. дои: 10.1063/1.110853. [CrossRef] [Google Scholar]

15. Bejbouji H, et al. Полианилин как слой инжекции отверстий на органических фотоэлектрических элементах. Солнечная энергия Матер. Солнечные батареи. 2010;94(2):176–181. doi: 10.1016/j.solmat.2009.08.018. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

16. Кавита С., Мохан Б., Бабу АО. Оценка производительности фотогальванических элементов с использованием функционализированных углеродных нанотрубок и полианилиновой пленки. Доп. Нац. науч. Наноски. нанотехнологии. 2015;6:025013. doi: 10.1088/2043-6262/6/2/025013. [CrossRef] [Google Scholar]

17. Дхаван С.К., Сингх Н., Родригес Д. Электромагнитное экранирование проводящих полианилиновых композитов. науч. Технол. Доп. Матер. 2003; 4:105. doi: 10.1016/S1468-6996(02)00053-0. [CrossRef] [Google Scholar]

18. Календова А., Сапурина И., Стейскал Ю., Васели Д. Антикоррозионные свойства полианилиновых пигментов в органических покрытиях. Коррос. науч. 2008;5(12):3549–3560. doi: 10.1016/j.corsci.2008.08.044. [CrossRef] [Google Scholar]

19. Амер К., Эбрахим С., Фетеха М., Солиман М., Эль-Шаер А. Органический полевой транзистор на основе полианилин-додецилбензолсульфокислоты для датчика влажности. Натл. Радио науч. конф. 2017; 34:440–447. [Google Scholar]

20. Николя-Дебарно Д., Понсен-Эпайяр Ф. Полианилин как новый чувствительный слой для датчика газа. Анальный. Чим. Акта. 2003; 475(1–2):1–15. doi: 10.1016/S0003-2670(02)01229-1. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

21. Карами Х., Мусави М.Ф., Шамсипур М. Новый дизайн сухих полианилиновых аккумуляторов. J. Источники энергии. 2003; 117: 255–259. doi: 10.1016/S0378-7753(03)00168-X. [CrossRef] [Google Scholar]

22. Zhang K, Zhang LL, Zhao XS, Wu J. Композиты графен/полианилиновые нановолокна в качестве электродов суперконденсаторов. хим. Матер. 2010; 22:1392–1401. doi: 10.1021/cm

6u. [CrossRef] [Google Scholar]

23. Гупта В., Миура Н. Высокоэффективный электрохимический суперконденсатор из электрохимически синтезированного наноструктурированного полианилина. Матер. лат. 2006; 60: 1466–1469.. doi: 10.1016/j.matlet.2005.11.047. [CrossRef] [Google Scholar]

24. Гото Ф., Абэ К., Окабаяси К., Йошида Т., Моримото Х. Полианилин/литиевая батарея. J. Источники энергии. 1987; 20: 243–248. doi: 10.1016/0378-7753(87)80118-0. [CrossRef] [Google Scholar]

25. Lakshmi GBVS, Dhillon A, Siddiqui AM, Zulfequar M, Avasthi DK. ВЧ-плазменная полимеризация и характеристика полианилина. Евро. Полим. Дж. 2009; 45: 2873–2877. doi: 10.1016/j.eurpolymj.2009.06.027. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

26. Цао Ю., Андреатта А., Хигер А.Дж., Смит П. Влияние условий химической полимеризации на свойства полианилина. Полимер. 1989;30(12):2305–2311. doi: 10.1016/0032-3861(89)-8. [CrossRef] [Google Scholar]

27. Delvaux M, Duchet J, Stavaux PY, Legras R, Demostier-Champagne S. Химический и электрохимический синтез полианилиновых микро- и нанотрубочек. Синтез. Встретил. 2000;113(3):275–280. doi: 10.1016/S0379-6779(00)00226-5. [CrossRef] [Академия Google]

28. Pattyn C, et al. Формирование наночастиц в аргон/анилиновой ВЧ-плазме низкого давления. заявл. физ. лат. 2018;112:013102. doi: 10.1063/1.5019926. [CrossRef] [Google Scholar]

29. Berndt J, Pattyn C, Hussain S, Kovacevic E. Плазменный синтез проводящих полимеров: экспериментальные результаты и некоторые замечания об общих стратегиях процессов полимеризации на основе плазмы. ЭКС Транс. 2017;77(3):49–52. doi: 10.1149/07703.0049ecst. [CrossRef] [Google Scholar]

30. Hussain S, et al. Плазменный синтез углеродных нанотрубок, покрытых полианилином, для электрохимических применений. Электрохим. Акта. 2018; 268: 218–225. doi: 10.1016/j.electacta.2018.02.112. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

31. Круз Г.Дж., Моралес Дж., Кастильо-Ортега М.М., Олайо Р. Синтез полианилиновых пленок методом плазменной полимеризации. Синтез. Встретил. 1997; 88: 213–218. doi: 10.1016/S0379-6779(97)03853-8. [CrossRef] [Google Scholar]

32. Александр М.Р., Джонс Ф.Р., Шорт Р.Д. Масс-спектральное исследование радиочастотного плазменного осаждения гексаметилдисилоксана. Дж. Физ. хим. Б. 1997; 101:3614–3619. doi: 10.1021/jp970663b. [CrossRef] [Google Scholar]

33. Haddow DB, France RM, Short RD, Bradley JW, Barton D. Масс-спектрометрическое и ионно-энергетическое исследование плазменной полимеризации акриловой кислоты с непрерывной волной. Ленгмюр. 2000;16:5654–5660. дои: 10.1021/la991537х. [CrossRef] [Google Scholar]

34. Бартон Д., Шорт Р.Д., Фрейзер С., Брэдли Дж.В. Влияние энергии ионов на скорость плазменной полимеризации акриловой кислоты. хим. коммун. 2003; 3: 348–349. doi: 10.1039/b210781c. [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

35. Steele DA, Short RD, Brown P, Mayhew CA. Об использовании экспериментов SIFT-MS и PTR-ms для изучения механизмов реакции в плазме летучих органических веществ: силоксанов. Плазменный процесс. Полим. 2011; 8: 287–294. doi: 10.1002/ppap.201000123. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

36. Хонг С.Х., Берндт Дж., Винтер Дж. Предвестники роста и динамика образования пылевых частиц в плазме Ar/Ch5 и Ar/C2h3. Источники плазмы Sci. Технол. 2003;12:46. doi: 10.1088/0963-0252/12/1/306. [CrossRef] [Google Scholar]

37. Kersten H, Deutsch H, Stoffels E, Stoffels WW, Kroesen GMW. Микродисперсные частицы в плазме: от неприятных побочных эффектов до новых применений. вклад Плазменная физ. 2001; 41:598. doi: 10.1002/1521-3986(200111)41:6<598::AID-CTPP598>3.0.CO;2-Z. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

38. Андерсон Х.М., Радованов С., Мок Дж.Л., Резник П.Дж. Частицы в травильных плазмах C2F6-CHF3 и CF4-CHF3. Источники плазмы Sci. Технол. 1994; 3:302. doi: 10.1088/0963-0252/3/3/010. [CrossRef] [Google Scholar]

39. Мишельмор А., Брайант П.М., Стил Д.А., Васильев К., Брэдли Дж.В., Шорт Р.Д. Роль положительных ионов в определении скорости осаждения и химии пленки непрерывной плазмы гексаметилдисилоксана. Ленгмюр. 2011;27(19):11943–11950. doi: 10.1021/la202010n. [PubMed] [CrossRef] [Академия Google]

40. Мишельмор А., Уиттл Д.Д., Шорт Р.Д. Важность ионов в плазме PECVD низкого давления. Передний. физ. 2015;3:3. doi: 10.3389/fphy.2015.00003. [CrossRef] [Google Scholar]

41. фон Кеуделл А., Шварц-Зелингер Т., Лейер М., Джейкоб В. Прямое определение синергизма между метильными радикалами и атомарным водородом при выращивании аморфных гидрогенизированных углеродных пленок. заявл. физ. лат. 2000; 76: 676–678. дои: 10.1063/1.125858. [CrossRef] [Google Scholar]

42. фон Кеуделл А., Корбелла С. Обзорная статья: выявление синергетических эффектов в процессах на поверхности плазмы с помощью экспериментов с пучками. Дж. Вак. науч. Технол. А. 2017; 35:050801. дои: 10.1116/1.4983275. [Бесплатная статья PMC] [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

43. Pattyn C, Kovacevic E, Strunskus T, Lecas T, Berndt J. Образование и поведение отрицательных ионов в анилинсодержащей RF плазме низкого давления . науч. Отчет 2019; 9:10886. doi: 10.1038/s41598-019-47425-9. [Бесплатная статья PMC] [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

44. Агарвал П., Гиршик С.Л. Численное моделирование ВЧ аргон-силановой плазмы с зарождением и ростом пылевых частиц. Плазменная хим. Плазменный процесс. 2014;34:489–503. doi: 10.1007/s11090-013-9511-3. [CrossRef] [Google Scholar]

45. Шепсис Л.В., Педроу П.Д., Махалингам Р., Осман М.А. Моделирование и экспериментальное сравнение импульсного плазменного осаждения анилина. Тонкие твердые пленки. 2001; 385:11–21. doi: 10.1016/S0040-6090(00)01905-2. [CrossRef] [Google Scholar]

46. Schmidt N, Schulze J, Shungel E, Czarnetzki U. Влияние структурированных электродов на нагрев и однородность плазмы в емкостных разрядах. Дж. Физ. Д заявл. физ. 2013;46:50. [Академия Google]

47. Берндт Дж., Ковачевич Э., Селенин В., Стефанович И., Винтер Дж. Аномальное поведение электронной плотности в импульсной сложной плазме. Источники плазмы Sci. Технол. 2006;15(1):18–22. doi: 10.1088/0963-0252/15/1/003. [CrossRef] [Google Scholar]

48. Tamirisia PA, Liddell KC, Pedrow PD, Osman MA. Импульсно-плазменная полимеризация тонких анилиновых пленок. Дж. Заявл. Полим. науч. 2004;93(3):1317–1325. doi: 10. 1002/app.20498. [CrossRef] [Google Scholar]

49. Николя-Дебарно Д., Мериан Т., Понсен-Эпайяр Ф. Химический контроль пленки и кинетика роста анилина, полимеризованного в импульсной плазме. Плазменная хим. Плазменный процесс. 2011;31(1):217–231. дои: 10.1007/s11090-010-9271-2. [CrossRef] [Google Scholar]

50. Сарма Б.К., Пал А.Р., Байлунг Х., Чутия Дж. Расширенное сопряжение в полианилинподобной структуре, полученной плазменной полимеризацией, пригодной для применения в оптоэлектронике. Плазменная хим. Плазменный процесс. 2011;31(5):741–754. doi: 10.1007/s11090-011-9311-6. [CrossRef] [Google Scholar]

51. Amreen AA, et al. Роль параметров плазмы в сохранении сопряженной структуры в тонкой пленке полианилина. Плазменная хим. Плазменный процесс. 2012;32(4):817–832. дои: 10.1007/s11090-012-9381-0. [CrossRef] [Google Scholar]

52. Mathai CJ, Saravanan S, Anantharaman MR, Venkitachalam S, Jayalekshmi S. Влияние легирования йодом на ширину запрещенной зоны тонких пленок анилина, полимеризованных в плазме. Дж. Физ. Д заявл. физ. 2002;35(3):240–324. doi: 10.1088/0022-3727/35/3/312. [CrossRef] [Google Scholar]

53. Wang J, Neoh KG, Zhao L, Kang ET. Плазменная полимеризация анилина на различных поверхностно-функционализированных подложках. J. Коллоидный интерфейс Sci. 2002; 251: 214–224. doi: 10.1006/jcis.2002.8389. [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

54. Ковачевич Э., Стеванович И., Берндт Дж., Винтер Дж. Инфракрасные отпечатки и периодическое образование наночастиц в плазме Ar/C 2 H 2 . Дж. Заявл. физ. 2003;93:2924. дои: 10.1063/1.1541118. [CrossRef] [Google Scholar]

55. Magnuson M, et al. Электронное строение полианилина и легированных фаз изучено методами абсорбционной и эмиссионной спектроскопии мягкого рентгеновского излучения. Дж. Хим. физ. 1999;111(10):4756–4761. дои: 10.1063/1.479238. [CrossRef] [Google Scholar]

56. Сюгаев А.В., Маратканова А.Н., Смирнов Д.А. Полианилиновые пленки, электроосажденные на железо из раствора щавелевой кислоты: линейный дихроизм поглощения рентгеновских лучей и расположение молекул. Дж. Твердотельный электрон. 2019;23:179–185. doi: 10.1007/s10008-018-4123-8. [CrossRef] [Google Scholar]

57. Melke J, et al. Взаимодействия наночастиц платины с металлом-носителем украшают углеродные нановолокна, легированные азотом, для реакции восстановления кислорода. Приложение ACS Матер. Интерфейсы. 2016;8(1):82–90. doi: 10.1021/acsami.5b06225. [PubMed] [CrossRef] [Google Scholar]

58. Булушева Л.Г., и соавт. Электронное состояние полианилина, нанесенного на углеродные нанотрубки или упорядоченные мезопористые углеродные шаблоны. физ. Status Solidi B. 2011;248(11):2484–2487. doi: 10.1002/pssb.201100108. [CrossRef] [Google Scholar]

59. Yau S, et al. Структуры молекул анилина и полианилина, адсорбированных на Au(111) электроде: по данным in situ STM, ex situ XPS и NEXAFS. Дж. Физ. хим. С. 2009;113(31):13758–13764. дои: 10.1021/jp

94. [CrossRef] [Google Scholar]

60. Lehmann J, et al. Спектроскопия тонкой структуры рентгеновского поглощения на ближнем крае (NEXAFS) для картирования наномасштабного распределения органических форм углерода в почве: применение к частицам черного углерода. Глоб. Биогеохим. Циклы. 2005;19:1. [Google Scholar]

61. Latham KG, Simone MI, Dose WM, Allen JA, Donne JA. Синхротронное исследование NEXAFS на гидротермальном углероде, легированном азотом: понимание функциональных возможностей поверхности и механизмов образования. Углерод. 2017; 114: 566–578. doi: 10.1016/j.carbon.2016.12.057. [Перекрестная ссылка] [Академия Google]

62. Girard-Lauriault PL, Desjardins P, Unger WES, Lippitz A, Wertheimer MR. Химическая характеристика богатых азотом плазмополимерных пленок, осажденных в диэлектрических барьерных разрядах при атмосферном давлении. Плазменный процесс. Полим. 2008;5(7):631–644. doi: 10.1002/ppap.200800054. [CrossRef] [Google Scholar]

63. Оран У., Сварадж С., Липпиц А., Унгер В.Е.С. Анализ поверхности осажденных в плазме полимерных пленок 7 «на месте» характеристик осажденных в плазме аллиламиновых пленок с помощью спектроскопии ToF-SSIMS, XPS и NEXAFS. Плазменный процесс. Полим. 2006;3(3):288–29.8. doi: 10.1002/ppap.

alexxlab

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *